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產(chǎn)品名稱：
高分子發(fā)泡材料研磨分散機
產(chǎn)品型號： GMSD2000更新時間： 2025-04-05描述：高分子發(fā)泡材料研磨分散機,SGN研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。轉(zhuǎn)速可達18000rpm，膠體磨+分散機一體化設備，先研磨后分散，效果佳。
產(chǎn)品介紹
| 類型 | 其他 | 物料運行軌跡 | 其他 |
|---|---|---|---|
| 篩網(wǎng)材料 | 其他 | 適用對象 | 其他 |
| 應用領域 | 化工 | 電機功率 | 4kw |
| 生產(chǎn)能力 | 0-1000t/h | 用途 | 工業(yè)用 |
| 外形尺寸 | 450*350*750mm | 重量 | 55kg |
一、產(chǎn)品名稱概述：高分子發(fā)泡材料研磨分散機,高分子材料管線式研磨分散機,發(fā)泡材料研磨分散機,高分子材料超高速分散機
SGN研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。研磨分散機轉(zhuǎn)速可達18000rpm，膠體磨+分散機一體化設備，先研磨后分散，效果佳。
（詳情及價格，劉經(jīng)理-1-3-6-8-1-6-7-9-7-4-0，公司有樣機可實驗！）
二、高分子發(fā)泡材料特點和應用
目前，高分子發(fā)泡材料廣泛應用于隔熱、隔音、減震、制鞋等領域。目前常用的高分子材料發(fā)泡方式有物理發(fā)泡和化學發(fā)泡。化學發(fā)泡法是指將化學發(fā)泡劑與高分子材料共混后，在一定溫度下，化學發(fā)泡劑受熱分解，產(chǎn)生氣體，膨脹，使高分子材料發(fā)泡，目前加熱方式主要還是電加熱方式，由于電加熱過程是通過熱傳導使高分子材料加熱，即首先通過電熱板將發(fā)泡模具加熱，發(fā)泡模具將熱量再傳遞給模腔內(nèi)的發(fā)泡材料，存在能耗高，加熱時間長，易出現(xiàn)局部加熱溫度過高而部分區(qū)域仍存在加熱死角等問題。
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三、高分子發(fā)泡材料研磨分散設備簡介
上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） SGN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設備轉(zhuǎn)速可達18000rpm，是目前普通設備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
四、高分子發(fā)泡材料分散機結構
GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
初級由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
四、從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結構是影響分散的一個重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的
六、研磨分散設備其它參數(shù):
設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTG 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器
七、GMSD2000系列高分子材料研磨分散機型號
| 型號 | 流量L/H | 轉(zhuǎn)速rpm | 線速度m/s | 功率kw | 入/出口連接DN |
| GMSD2000/4 | 300 | 18000 | 51 | 4 | DN25/DN15 |
| GMSD2000/5 | 1000 | 14000 | 51 | 11 | DN40/DN32 |
| GMSD2000/10 | 2000 | 9200 | 51 | 22 | DN80/DN65 |
| GMSD2000/20 | 5000 | 2850 | 51 | 37 | DN80/DN65 |
| GMSD2000/30 | 8000 | 1420 | 51 | 55 | DN150/DN125 |
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