多空氧化鎂高剪切分散機

越來越廣泛的應用對氧化鎂材料的結構和性質特征提出了更多的需求，主要集中在比表面積高、粒徑孔徑分布均勻、分散性優異、反應活性高等。目前的合成方法中，為實現對氧化鎂結構的控制，多采用各類模板劑、結構導向劑、載體等，反應成本高、控制難度大，且有污染環境的隱患，如何以更加簡單的方法，制備出形狀可控、具有比表面積高和活性優異的氧化鎂材料，是目前急需解決的問題。

一種麥穗狀氧化鎂具體制備步驟如下：

1. 將鎂鹽與鋁鹽按比例溶解在去離子水中得到混合鹽溶液，再加入弱堿分散或研磨至*溶解并混合均勻得到反應溶液；其中，Al3+與Mg2+摩爾比為0.01～10，較佳的摩爾比為0.5～5，Mg2+溶液的濃度為0.01～10mol/L，較佳的為0.2～5mol/L，弱堿溶液的濃度為0.1～10mol/L。
2.  

2.將該反應溶液轉移到水熱反應釜中進行水熱反應，水熱反應條件是：反應溫度80～200℃，反應時間4～24小時，攪拌速度100～800r/min；反應完畢冷卻至室溫，離心分離，并用去離子水洗滌至中性，得到多孔碳酸鎂前驅體；

3.將步驟B得到的多孔碳酸鎂前驅體于60～100℃，干燥8～24小時；在空氣氣氛下焙燒，以1～10℃/min升溫速率升至450～600℃，焙燒2～4h，得到目標產品，經檢測其為麥穗狀氧化鎂，比表面積為10～300m2/g，孔容為0.15～0.45cm3/g。

 管線式超高剪切乳化分散機就是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體、氣體)進入到另一互不相溶的連續相(通常液體)的過程的設備的設備。而在通常情 況下各個相是互不相溶的。當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經過高頻的循環往復，終得到穩定的高品質產品。

 
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管線式超高剪切乳化機由1-3個工作腔組成，在馬達的高速驅動下，物料在轉子與定子之間的狹窄間隙中高速運動，形成紊流，物料受到更強液力剪切、離心擠壓、高速切割、撞擊和研磨等綜合作用，從而達到分散、乳化、破碎的效果。被加工物料本身和物理性質和工作腔的數量以及控制物料在工作腔中停留的時間決定了粒徑分布范圍及均化、細化的效果和產量的大小。高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據一些行業特殊要求，公司在XR2000系列的基礎上又開發出GRS2000超高速剪切分散乳化機。其剪切速率可以超過10.000 rpm，轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。

三級高剪切分散機器，主要用于微乳液及超細懸乳液的生產。由于工作腔體內三組分散頭（定子+轉子）同時工作，乳液經過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同工藝應用。該系列中不同型號的機器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴大規?；a。也符合CIP/SIP清潔標準，適合食品及醫藥生產。

高的轉速和剪切率對于獲得超細為懸浮乳液是重要的。根據一些行業特殊要求，其剪切速率可以超過15000rpm，轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布更窄。

以下為型號表供參考：

多空氧化鎂高剪切分散機

• GRS2000小型納米白炭黑管線式分散機
• GMD2000蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機
• GMD2000磷酸氫鈣混懸劑分散機
• GMD2000石墨烯富鋅底漆涂料分散機
• GMD2000納米金屬氧化物研磨分散機
• GRS2000納米白炭黑管線式分散機
• GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機
• GRS2000化學肥料高剪切乳化研磨分散機
• GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機
• GRS2000磷酸氫鈣高剪切分散機